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青岛市净化车间的温度和湿度主要根据工艺要求确定，但在满足工艺要求时，应考虑人的舒服度。随着空气洁净度要求的提高，工艺对温度和湿度的要求越来越严格。以后会列出具体工艺对温度的要求，但作为一般原则，由于加工精度越来越精细，对温度波动范围的要求也越来越小。例如，在大规模集成电路生产的光刻曝光过程中，玻璃和硅片作为掩膜板材料的热膨胀系数差异越来越小。
硅片直径100um，温度上升1度，导致0.24um线性膨胀，所以要有0.1度的恒温，湿度值一般较低，因为人出汗后会污染产品，尤其是怕钠的半导青岛市净化车间，车间温度不能超过25度，湿度过高造成的问题更多。当相对湿度高于55%时，冷却水管壁会结露。如果发生在静密装置或电路中，会发生各种事故。当相对湿度为50%时，容易生锈。此外，当湿度过高时，附着在硅片表面的灰尘会被空气中的水分子化学吸附，难以去除。相对湿度越高，粘附越难去除，但当相对湿度低于30%时，由于静电，颗粒容易吸附在表面，大量半导体器件容易穿透。硅片生产的良好湿度范围为35-45%。
在青岛市净化车间的基础设施建设中，要利用好上述方法，从设计到施工，注重效率和产品质量，在gao效的前提下进行高质量的工程建设。
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